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会社概要
事業案内
一つ一つを大切に
お客の皆様は勿論のこと、私たちをサポートしてくださる協力会社の皆様とも、
良きパートナーでありたいと考えます
一つ一つを確実に
新たな創造を可能とするためにも、繊細な技術を細心・確実に実現できるよう心がけています
私たちにできること
真空・加熱成長／拡散／アニール炉全般
目的に応じて、CCヒーター、 SiCヒーター、 PG/PBNヒーター、カンタルヒーター、タングステンヒーター
モリブデンヒーター、シースヒーター、 高周波加熱などを使用いたします
モリブデンやタングステン等の特殊金属加工全般
半導体関連装置
GaN-MOCVD装置
仕様概略
フェースダウン仕様
基板公転
MOCVD用部材エッチング・ベーク炉
仕様概略
上下ヒーター C/Cヒーター Φ980mm
最大温度 1300℃
有効処理 Φ830mm×100ｍｍ
縦型熱処理装置 Φ300mmSi用
仕様概略
Φ300mm×65枚
1250℃仕様
温度均一性 ±0.5℃
横型小型成長炉
対応製品
・ GaN-MOCVD装置 枚葉式
・ GaAs-MOCVD装置 枚葉式、バッチ式
・ GaAs縦型拡散炉 バッチ式
・ 縦型熱処理炉 Φ300ｍｍSi用 max1400℃
・ MOCVD部材用エッチング・ベーク炉
・ CVD装置 枚葉式
・ 各種縦型熱処理炉
・ 各種高真空装置
Flap Technology
ユニット部品等
液体ボトル
排気トラップ
特殊金属加工品
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